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退火炉的工作原理
2020-03-24
退火炉是用于制造半导体器件的过程,该过程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理旨在实现不同的效果。可以加热晶圆以激活掺杂剂,将薄膜转化为薄膜,或者将薄膜转化为晶圆基材界面,制成致密沉积的薄膜,改变生长薄膜的状态,修复注入的损伤,移
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